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Hei-VAP Precision ML G3控制型旋轉(zhuǎn)蒸發(fā)儀集成真空控制器，為您提供zui大范圍的參數(shù)控制，包括但不限于可重復(fù)操作及全自動(dòng)程序操作。甚至可以通過識(shí)別不同沸點(diǎn)的溶劑來進(jìn)行針對(duì)性定點(diǎn)蒸餾。
| 型號(hào) | |
|---|---|
| 更新時(shí)間 | 2019-09-17 |
| 訪問次數(shù) | 1184 |
Hei-VAP Precision ML G3控制型旋轉(zhuǎn)蒸發(fā)儀技術(shù)參數(shù)：
型號(hào) | Hei-VAP Precision（ML） |
手動(dòng)升降/電動(dòng)升降 | 電動(dòng)升降 |
高度調(diào)節(jié)速度 | 30 mm/s |
高度調(diào)節(jié)行程（mm） | 155 |
旋轉(zhuǎn)速度（rpm） | 10-280 |
旋轉(zhuǎn)速度設(shè)定 | 4.3＂LCD彩色圖形顯示屏 |
驅(qū)動(dòng) | 帶電子速度控制的無刷電機(jī) |
加熱功率（W） | 1.300 |
加熱鍋溫度范圍（℃） | 20-210 |
加熱鍋溫度精度（℃） | ±1 |
加熱鍋過熱保護(hù)（℃） | 通過額外獨(dú)立的Pt 1000溫度傳感器檢測，超過設(shè)定溫度5℃斷電 |
加熱鍋溫度設(shè)定 | 4.3＂LCD 彩色圖形顯示屏 |
加熱鍋溫度控制 | 電子/數(shù)字 |
二次過熱斷電（℃） | 250 |
加熱鍋材質(zhì) | 不銹鋼 AISI 316L |
加熱鍋尺寸（mm） | 255 |
加熱鍋容量（L） | 4.5 |
蒸汽溫度顯示 需要選件配合 | 可以 蒸汽溫度傳感器 |
內(nèi)置真空控制器 | 有 |
定時(shí)器 | 有 |
真空程序SETpressure** | 可以 |
Vacuumprogram AUTOeasy** | 可以 |
Vacuumprogram AUTOaccurate** 需要AUTOaccurate-傳感器accurate** | 可以 |
遠(yuǎn)程控制 | |
- 升降 | 可以 |
- 開始旋轉(zhuǎn) | 可以 |
- 開始真空 | 可以 |
- 加熱鍋運(yùn)行 | 可以 |
可編程梯度 | 可以 |
電壓（W） | 1.400 |
重量（不含玻璃件）（kg） | 17 |
含G3玻璃件尺寸（mm） 寬度是水浴鍋擴(kuò)展后（l x w x h） | 453xzui大739x808 |
含G3 XL玻璃件尺寸（mm） 度是水浴鍋擴(kuò)展后（l x w x h） | 453xzui大739x888 |
保護(hù)等級(jí)***（DIN EN 60529） | IP 20 |
工作環(huán)境 | 5-31℃， 80％相對(duì)濕度.32-40℃，相對(duì)濕度線性降低，zui大到50％RH |
冷凝表面積（cm2） | 1.400 |
XL超大冷凝管冷凝表面積（cm2） | 2.200 |
Hei-VAP Precision ML G3控制型旋轉(zhuǎn)蒸發(fā)儀性能特點(diǎn)：
●為了提高安全性，可設(shè)置加熱鍋的安全溫度
●您也可通過控制面板遠(yuǎn)程控制和監(jiān)視屏幕數(shù)據(jù)變化
●大型彩色圖形顯示屏顯示所有參數(shù)和自動(dòng)程序
●提供手動(dòng)或電動(dòng)升降配置
●體驗(yàn)大型4.3＂彩色圖形顯示屏的優(yōu)勢(shì)，該顯示屏可顯示所有參數(shù)
●Hei-VAPPrecision型號(hào)具有USB接口，可用于數(shù)據(jù)拷貝和管理
●設(shè)置省時(shí)省力-可識(shí)別所有連接旋蒸的設(shè)備，無需手動(dòng)配置
●您可以輕松應(yīng)對(duì)zui苛刻的蒸餾實(shí)驗(yàn)，防止起泡及暴沸
●內(nèi)置30種zui常見的蒸餾程序，可隨時(shí)調(diào)用，從而節(jié)省您預(yù)編程設(shè)定參數(shù)的時(shí)間。每個(gè)程序可以設(shè)置20個(gè)獨(dú)立的步驟以滿足應(yīng)用。每個(gè)程序可以單獨(dú)命名，以免混淆
●體驗(yàn)定時(shí)功能的優(yōu)勢(shì)，定時(shí)器可在達(dá)到預(yù)設(shè)時(shí)間后關(guān)閉設(shè)備，對(duì)于電動(dòng)升降型號(hào)，蒸發(fā)瓶會(huì)被自動(dòng)提升出浴液液面
●通過預(yù)先編程真空梯度來單獨(dú)控制反應(yīng)過程
●Hei-VAPPrecision內(nèi)置真空控制器